王易有些无语。
镜片可以说是他最早开始起家的地方，连魔力核聚变的原理都是从研究镜片时找到的。
DUV光刻机可以说只是‘试试水’的产品。
为啥一直用干式的光刻法？
其实就是因为EUV光刻机是无法使用浸润法的，甚至EUV光刻机还不能用传统的干式，而是要用‘真空’环境。
因为极紫外线已经是电离辐射，足够将空气电离了，更别说液体。
这种情况下大本营之外的当然还是DUV，但蓬莱上本来就是王易亲自打造的镜片配套的EUV光刻体系。
结构上和以前的DUV都还相当类似，完全成熟的技术。
不像阿斯麦的EUV光刻机因为没有可以让极紫外线通过的镜头，需要使用反射，能量损失极为严重，每次反射都要浪费30%左右，最终只有2%的利用率。
体积增大的同时光源的高功率还需要配套冷却系统，几乎是相当于完全新开一条赛道了。
所以其实王易这边的EUV光刻机出来的还要更早，而且效率和良品率也要远超！
“可是他们也有EUV了呀，硅基芯片的物理极限都快到了，老板，人家要升级嘛~”
林诗琴的话也让王易有些无语。
她应该能够知道，王易在量子计算的提升上对她是有一定限制的。
毕竟量子计算的算力指数加成，配合王易的新公式算法，很容易导致失控。
但经典计算机的算力提升，王易肯定还是不会给她什么制约的。
EUV光刻机，分辨率远远超过了DUV光刻机。
采用的是13.5nm波长，已经接近X射线的极紫外线，
理论上已经能达到硅基芯片的极限！
要知道单个的硅原子也就是0.12nm，还要考虑电子隧穿效应，所以目前正常的观点中，1nm差不多就是硅基芯片的极限了。
当然，当初20nm的时候隧穿效应就已经出现，通过结构调整解决的，说不定等到1nm工艺后又找到了解决办法。
可即便这样，0.12nm的硅原子大小也摆在这里，总不可能把原子分开。
这种情况下，所需要考虑的要么就是通过叠加芯片数目来增加晶体管数，采取新架构和新的方式，要么就要考虑其他材料了。
比如碳基就是一个方向，但碳基有待解决的问题太多了，麻烦还很多。
而除此之外，还有另外一种材料，同等密度下算力能够超过硅基数百倍！
而且因为功耗极低，几乎没有散热问题，可以轻易的集成与立体化叠加，达到理论上同规模下远超硅基上限的效率。
那就是利用约瑟夫森结形成的超导材料。
是，量子计算机也要运用到超导，但超导对计算机的运用可并不单单是量子计算机，传统的超导计算机同样也有着对应结构。
只是因为性价比问题和现在的低温超导材料，目前只是做出过单个的约瑟夫森结来用来测试，并没有尝试过集成。
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