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第806章 不配拥有名字的大CPU(求订)(2/3)

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  方年提交给上面的一些激进草案,其实都存在着一定的默契。

  好听点叫一拍即合。

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  要不然苗为闲得蛋疼协调五家银行给前沿放贷150亿,方年连利息都不问,一口应承下来。

  一如方年一贯以来表达的那样,社会不是非黑即白,而是灰色。

  …………

  …………

  连续数日的飘飘细雨,令整个申城仿佛都蒙上了一层薄雾。

  是较为难受的回潮天。

  当然,这也是相对的。

  像是方总就感受不到这天气带来的难受与黏腻。

  眨眼便已经是3月下旬。

  在周一的下午,上完了今日课程的方总走进了前沿办公室,背着双手站在窗前看着外面淅淅沥沥的雨雾。

  颇有种闲情逸致的味道。

  “……”

  好片刻后,温叶才凑上来打破这种安静:“方总,您要不现在听听汇报?”

  没错,方年之所以会走进前沿办公室的门,是温叶喊来的。

  方年轻轻点头。

  温叶清了清嗓子:“是这样的,白泽那边已经完成了服务器CPU的流片验证工作,第一款测试级的服务器CPU可用。”

  闻言,方年回头看了眼温叶,走回了工位:“仔细说说,我记得这个月应该有不少项目完工。”

  见状,温叶翻开文件夹,有条不紊的汇报起来。

  “这款服务器CPU采用了CB12指令架构,包含最新的Ex64指令集,在‘未竟’架构的基础上借鉴了部分‘初’架构,合理的设计了8个核心,采用中芯40纳米制程流片而成;

  仅流片了一次,便成功通过实际验证;

  不过各方面性能并不是很亮眼,但根据相关测试,大CPU项目组认为这样一款CPU,可以提供足够丰富的实测数据……”

  听温叶停顿下来,方年晃晃手:“都说完吧。”

  温叶轻轻点头,继续往下说:“上周五,贵阳数据中心一期土建工程通过验收,已经可以开始服务器机组的安装调试工作。”

  “……”

  “上周四神龙211流片通过,神龙511流片通过,性能不达标,在调整后将进行第二次流片……”

  “……”

  “晶圆测试线月初正式启动了试生产,光刻机的良率、稳定性等十分不理想,需要进行一定的调整;

  据汇报,有望在下月进行65纳米制程试生产。”

  似乎知道方年会有疑惑,说到这里,温叶特地补充了几句:“DUV浸入式光刻实际上一直可以支持到7纳米制程的光刻;

  根据晶圆试验线的负责教授解释:

  传统国际半导体技术蓝图定义光刻制程技术节点的是最小金属间距。

  又根据一个瑞利公式:CD=K1×(λ/NA),降低波长λ,提高镜头的数值孔径NA,降低综合因素K1,即可不断演进光刻制程。

  DUV激光光源从90年代末至今就一直是停滞在193nm波长;

  不过有人提出了新的方案,一个工程上很简单的办法,在晶圆光刻胶上加1mm厚的水,水可以把193nm的光波长折射成134nm,再做到半周期65nm;

  总之……

  晶圆实验室的教授很有信心保证能在较短时间内突破至65纳米光刻,之后可能会漫长一点,但也不会是太久远的事情。”

  一口气照本宣科的说完,温叶并未多停顿,继续解释。

  “虽然梼杌实验室牵头的EUV光刻研发进展十分缓慢,但因为从欧美国家收购的各类技术等等;

  对DUV光刻机的研发推动工作很有帮助。”

  “……”

  最后,温叶总结:“截止目前,就是这些项目有确切成果。”

  “小谷负责的胜遇4G组网方案实际实验,还需要一点点时间,应该是在四月底能完成。”

  听温叶完全说完后,方年稍作沉吟:“也就是说,梼杌一点都不重视的DUV光刻进展神速,去年最后一个季度投入了70亿,今年第一季度又投入十数亿的EUV进展龟速?”

  “也可以这么理解。”温叶无奈回答,“国内无论是梼杌还是协调的那些单位,在EUV方面的积累可以称之为0。”

  方年咂咂嘴:“还真是有点意外。”

  接着方年看了眼温叶,话锋一转:“不过温秘,你连个照本宣科都整不明白?

  实验室那台DUV光刻机要硬上的话,现在就可以生产65纳米,只是在没调整镜头等硬件的情况下,良率会爆炸,无非是多重光照罢了。”
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